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江蘇夢(mèng)得新材料科技有限公司

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輔助及走位劑

SAS烯丙基磺酸鈉

產(chǎn)品代號(hào)：SAS

英文名稱(chēng)：Sodium allyl sulfonate

分子式：
C₃H₅SO₃Na

分子量：144.1

CAS NO：2495-39-8

外觀：白色顆粒

溶性：易溶于水

含量：≥98%

包裝：1kg封口塑料袋；25kg紙箱；25kg防盜紙板桶。

存儲(chǔ)：本品為非危險(xiǎn)品，儲(chǔ)存于陰涼、干燥、通風(fēng)的區(qū)域。

有效期：2年

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詳情介紹

產(chǎn)品應(yīng)用

SAS在光亮鍍鎳中是走位防針孔輔助光亮劑，加入SAS能提高勻鍍能力減少主光劑用量；通常與BSI、炔醇類(lèi)等次級(jí)光亮劑配合使用，可獲得柔軟性極佳的鍍層?？蛇m用于光亮酸性鍍鎳、啞光鍍鎳、化學(xué)鍍鎳、鎳鐵合金等工藝。

光亮酸性鍍鎳配方

注意點(diǎn)：

SAS與BSI、DOSS、BKSS、ALS、TPP、ATPN、VS、PS等鍍鎳中間體可組成性能優(yōu)良的光亮鍍鎳柔軟劑。建議鍍液中用量為0.25-1g/L。鍍液中含量過(guò)低，鍍層整平光亮度下降，鍍液中含量過(guò)高，鍍層容易發(fā)花發(fā)黃，可活性炭吸附或電解處理。鍍液中消耗量為30-50g/KAH。

化學(xué)鎳添加劑配方

注意點(diǎn)：

SAS與BEO、PPS、DEP、MOSS等中間體可組成性能優(yōu)良的化學(xué)鎳添加劑，建議鍍液中含量為0.01-0.03g/L。鍍液中含量過(guò)低，勻鍍能力和消針孔能力降低，鍍液中含量過(guò)高則消光，影響鍍層光亮度。

亞光鎳配方

注意點(diǎn)：

SAS與BSI、DOSS、BKSS、PESS、MOSS、TPP、ATPN等中間體可組成性能優(yōu)良的亞光鎳添加劑，建議鍍液中用量為0.05-0.1g/L。鍍液中含量過(guò)低，鍍層走位性能變差，鍍液中含量過(guò)高，鍍層容易發(fā)花發(fā)黃，可用活性炭吸附或小電流電解處理。鍍液中消耗量為15-25g/KAH。

鎳鐵合金配方

注意點(diǎn)：

SAS與BSI、DOSS、BKSS、ALS、TPP、ATPN、VS、PS等鍍鎳中間體可組成性能優(yōu)良的鎳鐵合金電鍍?nèi)彳泟?。建議鍍液中用量為0.25-1g/L。鍍液中含量過(guò)低，鍍層整平光亮度下降，鍍液中含量過(guò)高，鍍層容易發(fā)花發(fā)黃，可活性炭吸附或電解處理。鍍液中消耗量為30-50g/KAH。

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