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詳情介紹

一、消耗量

硬鉻電鍍工藝不含氟，陰極效率高，深鍍能力好，成本低，性能穩(wěn)定。而且可產(chǎn)生硬度達(dá)到1000HV、0.1的微裂紋硬鉻。HVSS硬鉻電鍍工藝兼有傳統(tǒng)硫酸型電鍍液的優(yōu)良特性，只對(duì)鐵及鐵合金產(chǎn)生輕微腐蝕，且有良好的陰極電流效率，可達(dá)27%（傳統(tǒng)工藝只能依靠含氟的催化劑）?？蓮V泛應(yīng)用于耐磨鏡面工件以及印刷機(jī)滾筒等各個(gè)領(lǐng)域，并且可在各種基材上鍍出所需的厚度。

二、開缸（100L）

配槽步驟

1.徹底清洗鍍槽；

2.向鍍槽加入三分之二的去離子水(不能含有氯離子), 加熱至50℃左右；

3.在連續(xù)攪拌條件下逐步加入所需數(shù)量的鉻酸；

4.待鉻酸完全溶解后, 邊攪拌邊加入HVSS添加劑。

注意：不需要加硫酸

5.將溶液混勻后, 加去離子水至最終體積；

6.掛入陽極；

注意：新的鉛或鉛合金陽極要帶電下槽

7.用陰極板電解2-3小時(shí)，要大陰極小陽極，電流密度30-40 A/dm2；

8.鍍液配好可以使用。

三、設(shè)備

四、操作條件

五、鍍液的補(bǔ)充與維護(hù)

1. 維護(hù)：

2. 鍍液的補(bǔ)充：

如需添料，請(qǐng)?jiān)跍y(cè)量波美或分析后進(jìn)行。一般，每周需測(cè)一次波美。鍍液密度會(huì)在電鍍過程中下降，每添加大約1.5㎏鉻酸酐可使100升鍍液升高1°Be，每添加100公斤鉻酸酐需補(bǔ)加HVSS 8-10升。

正確調(diào)整硫酸根含量通過分析數(shù)據(jù)分步處理：

> 提高1克/升單位的硫酸根需要加0.55毫升/升分析純硫酸（98%）

> 降低1克/升單位的硫酸根需要加2克/升碳酸鋇

六、HVSS添加劑的影響

1. 濃度太低，鍍層會(huì)出現(xiàn)乳白色或者變暗；濃度過高，會(huì)降低所用電流密度的值，并導(dǎo)致鍍層在高區(qū)燒焦或出現(xiàn)核狀鍍層。

2. 如果添加劑補(bǔ)充過多，只能稀釋鍍液。所以建議按比例加入添加劑，帶出量及再循環(huán)量也會(huì)影響添加量。

七、雜質(zhì)

1. 三價(jià)鉻的濃度一般3-8克比較好，不能超過15g/L，如超過必須用40-50A/dm2 陰極電流密度下進(jìn)行電解，且使陰極面積是陽極面積的15-20%。

2. 必須嚴(yán)格控制帶入鍍液里Fe、Cu、Ni和Zn雜質(zhì)。

八、廢水處理

廢水中含有Cr6+離子。在pH值調(diào)節(jié)到2.0 - 2.5以后,Cr6+離子可以用亞硫酸氫鈉還原成Cr3+；在充分的反應(yīng)之后, 用NaOH溶液調(diào)節(jié)pH值至8.5 - 9.0 , 使Cr3+生成氫氧化鉻(III)沉淀。分離出的沉淀及過濾出的氫氧化物泥, 當(dāng)作廢物處理掉。鍍液含六價(jià)鉻化合物及重金屬雜質(zhì)，比如鐵和銅雜質(zhì)。水洗及濃縮廢液的處理必須符合當(dāng)?shù)丨h(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。

九、分析方法

鉻酸的分析：

試劑：

步驟

1．取10mL鍍液至500mL容量瓶中；

2．取10mL①的鍍液至300 mL錐形瓶；

3．依次加入：50 ml水，10mL碘化鉀溶液，50mL 1:10的H2SO4 ；

4．加硫代硫酸鈉溶液滴定，直到棕色褪去；

5．加5 mL淀粉溶液滴定，直到變?yōu)闊o色，有時(shí)會(huì)出現(xiàn)淡綠色。

計(jì)算

g/L鉻酸 = 硫代硫酸鈉的滴定體積（mL）× 16.7